第257节(1/3)

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    这套系统比asml的euv机台大了足足三倍,这是由于采用了功率更高的紫外混合激光发生系统,更复杂的透镜系统,和更牢固的刻蚀引擎。
    罗佳的演讲永远充满干货,节奏飞快,刚才他还在讲北美陶氏化学,断供poe弹性体的事情,广义上的poe,是指乙烯辛烯共聚物、乙烯丁烯共聚物,乙烯己烯共聚物等等。
    它们都是聚烯烃类弹性体,用来做pa尼龙增韧剂,pp抗冲改性,eva挤出软管,pe膜之类的产品。
    目前全世界仅有六家厂商生产,并且全都是外企,我国对poe年需求量在二十万吨,全部必须靠进口。
    陶氏化学作为全球最大的poe供应商,突然断供,对我国影响巨大,所以星辰化学现在临危受命,准备搞技术攻关。
    另外罗佳还说,从这件事上要学会居安思危,塞拉尼斯集团的醋酸纤维丝,超分子量聚乙烯,聚苯硫醚pps,英威达和奥盛德集团的pa66,伊斯曼集团的pctg和petg,这些化工产品也要尽快完成进口替代。
    反正罗佳是从化学,直接就跳到了光刻机,把正聚精会神听讲的观众们吓了一大跳,以为罗佳还要再扯一会儿呢,竟然直接进入正题了。
    “我知道,很多西方同行在怀疑,我们这套究竟是不是真正的第四代光刻系统。”罗佳大声宣布道:“现在,怀疑的人可以睁大眼睛看清楚了,这是如假包换的第四代,超级紫外混合激光刻蚀曝光系统!”
    “如这张简要设计图所示,我们在这套系统中,创造出了波长为零点五纳米的超紫外混合激光,其精度,是目前全球最先进,asml集团euv机台的整整二十七倍!”
    “而为了获得比极紫外更强的光源,星辰光学团队研发了csmt全反射变焦镜头组件,变焦十六倍,数值孔径零点零三三,最大曝光范围七十六乘以九十三毫米!”
    “这套透镜,是德国卡尔蔡司透镜性能的,整整三十倍!”
    第378章 企业界在行动 国家队也有大动作
    总的来说,第四代光刻机技术指标,是第三代euv的二十倍左右。
    这就好比马车和火车的迭代,差距是全方位的,更短的波长只是一种表象,最惊人的创举在于,星辰科技突破了曝光功率的物理限制。
    普通百姓们或许并不清楚,从第一代到第三代光刻机,其实都是大力出奇迹的结果。
    就拿第三代euv来说,极紫外光是超大功率的电老虎,250w的机台每工作一天,就要耗费高达三万度的电力,而且还需要一套体积惊人的散热系统辅助。
    技术不够,功率来凑,一直是光刻机发展的逻辑,在星辰科技之前,没有任何企业真正解决过这个问题,工程师们的思路通常简单粗暴,他们想要更精确地曝光效果,就不断的提高功率,制造更大的光源发生器,打磨更精良的透镜。
    星辰科技之所以能够彻底解决问题,是因为他们没有延续大功率光源过爆的传统,而是直接采用了激光。
    从本质上来来说,星辰科技的第四代光刻系统,就是一套激光散射平台,这玩意儿不仅能刻蚀硅晶圆,工艺改良之后,甚至还能发展出激光武器。
    当然,从激光刻蚀平台到激光武器之间,还有很长的科技树要攀爬,并不能够一蹴而就。
    “是激光散射!华夏人用了激光技术!”
    “零点五纳米的激光刻蚀?那岂不是意味着,星辰科技有能力把芯片的指标,推进到零点一纳米,甚至更低?”
    “完全无法想象,设计端跟上的话,需要多少核心,他们就能制造多少个核心,将128核心处理器塞进手机,也不再是痴人说梦了。”
    “这太牛了吧?”
    “星辰科技牛逼!”
    尽管大多数吃瓜群众听不懂罗佳报出的技术参数,但专业人士却很快明白了这套光刻系统的厉害之处。
    延续了几十年的光刻技术,从此脱胎换骨了,紫外光刻蚀即将退出历史舞台,未来必将属于星辰科技的激光刻蚀技术。
    芯片这种主导了人类科技的顶尖产品,将在工艺方面达到崭新的高度,一纳米,零点一纳米,甚至零点零一纳米的芯片产品,将取代现有的七纳米技术,功耗,处理能力,发热,都会得到跨越式提高。
    未来已来,华夏的科技同仁们为之欢呼振奋,而西方世界却陷入了深深的恐惧,他们万万没有想到,今天星辰科技拿出来的,竟然是真正的第四代技术,而且技术等级之高,几乎可以用奇迹来形容。
    “完全听不懂呢,但这么多人发弹幕撒花,是很厉害的意思吗?”
    随着罗佳的介绍继续,吃瓜群众们不明觉厉,纷纷打听。
    “何止是厉害,星辰科技牛逼大了!第四代光刻技术不仅硅晶圆能用,日后发展更先进的石墨烯晶圆,高分子碳晶圆,也全都能用!是面向未来几十年的技术!”
    科技爱好者们纷纷吹爆,任何一项伟大技术的发明,带给人类的绝不仅仅是一点改变,而会是一场轩然大波。
    就如同卡门涡街技术的问世,彻底改变了全球能源的格局,俄国和中东狗大

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