第324章(1/2)

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    这次任务摊在他们身上的应不算重。
    重的应该是那些十年如一日都在攻克光学镜片的科研小组,他们参加过很多次类似于这种光刻机攻克计划。
    但是从来没有像这次一样急迫,因为美国和岛国等国家的压迫, 现在国家的光刻事业已经站在了决战边缘。
    这年来国内也有一定的科研成果。
    2017年smee就验收了90nm光刻机,马上就具备了成本优势和企业规模, 占据了全国60%的市场,全球40%的市场。
    外国怎么能不害怕。
    目前国内比较容易买到里比较先进的光刻机就在曹能能的实验室, 28nm制程, 最高可制造22nm, 但那是从国外买的, 而且也经过了多方的手续。
    221计划的最终目的是突破14nm的光刻机, 并且建设上下游相应的工艺研发生产线,这才是华夏老大难的问题。
    而不是有没有这个技术的问题。
    宋问声是以为国家只能制造90nm的光刻机,进来之后他才发现他这是小瞧了天下英雄。
    其实smee在前年的时候65nm的光刻机已经突破,并且低调封装。
    28nm的光刻机在悄悄研发,目前已经在国家验收当中。
    宋问声的光刻胶其实只是配合曹能能他们实验室改性,做到了193纳米浸润光刻,这个193和晶圆的大小几nm的不一样,193nm说的是光源的波长,除了193之外还有一种248nm的光线。
    这意味着这款光刻胶可以制造14nm到90nm之间的纳米芯片。
    别人过去二十年用的是car,这几年都是在考虑金属氧化物或者干性光刻胶,富勒烯……这是个什么玩意儿?
    富勒烯能够量产了?
    别问,问就是宋问声给雷电科技以及华科的牵线搭桥。
    他手中的富勒烯实验室技术也给了雷电科技,要中试要放大要实现产业化,交给他们了!
    而且这还不是它的终点,富勒烯光刻胶绝对可以更深的研究下去。
    作为拥有它们资料的人,宋问声是再清楚不过的了。
    咱们华夏藏着一些技术,外国未必没有,去年年底的时候,asml即已经提出了3nm光刻机产业化。
    他们甚至想要延续摩尔定律,将半导体工艺再未来几年内推进到1nm,但是工艺发展到3nm就已经进行不下去了。
    各种各样的东西桎梏着发展。
    材料、设备、制造……
    他们一个一个问题都被解决了,剩下光源和光刻胶这两个问题始终难以解决和替代。
    可是在asml收购美国光源制造商cymer之后,光源问题得到了解决,那就剩下一个问题——光刻胶。
    他们认为是光刻胶技术的限制让他们无法突破到1nm。
    因此这些年来材料商想尽各种办法解决,但是效果不尽如人意。
    富勒烯光刻胶是被宋问声给予厚望的东西,在系统给出的方案里,他已经看到了它们的应用前景。
    包括不仅限于1nm的光刻胶技术。
    这个潜力上面的人目前还没有察觉到,毕竟现在只是在华科秘密试验生产,考察团只是看了一些数据。
    宋问声他们三人小组目前的主要任务就是改性光刻胶,让它们突破14nm的桎梏,最好到达7nm。
    时间足够长的话这并不是什么紧急任务,但是应富华提醒了他们时间才是最重要的问题。
    所以本来松了一口气的三个人还是稍微拉紧了一点皮。
    第一天就是在讨论总体路线,其实和光刻胶小组关系并不算太大,光刻机那边是一个整体,光刻胶对他们影响不大。
    但是宋问声还是听得很认真,在这个过程当中他也算是学习吧。
    被分配到他们这边的学者基本上和曹能能他们有些联系,曹能能和吴勇也算是国内光刻胶翘楚,是山头,又以宋问声为主,所以光刻胶小组才见第一面就全部被宋问声收服了。
    整个小组里有的人可能知道,也可能不知道,但也并不耽误宋问声对他们说接下来的规划路线。
    此时此刻,曹能能和吴勇充当了狗腿子,分发宋问声花了一点时间整理出来的资料和路线。
    宋问声站在主位,目光带着一点威势扫视着他们,大家噤声不敢言。
    其实宋问声是在看系统弹射出来的光屏,那是是一个新任务。
    很久没有接过任务,宋问声都有些恍然了。
    现在的他最期待的还是完成任务的奖励,如果是抽奖那就更好了。
    之前几次抽奖,他都看见奖池里有不少的好东西。
    “系统任务:请宿主在光刻机攻克计划当中有一定的贡献,奖励程度视贡献而定。贡献程度:0/100%。”
    “接受。”
    收起光屏,宋问声看见这些人都乖乖的低头看路线,他点头,在黑板上写下总路线。
    三十分钟之后,他问,“有人有疑问吗?”
    一个三十多岁带着眼睛的男人,颤颤巍巍的举起手试探道,“富勒烯,我们国内好像没有

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